MiniLED新賽道崛起,NAURA迎風啟航

 MiniLED、MicroLED在近期成為了市場熱詞,諸多上市公司的年報中將2020年視為“Mini/MicroLED元年”。未來,4K、8K電視的市場擴張也將進一步帶動LED顯示技術的需求。作為新一代高清晰度終端顯示技術,MiniLED芯片應用已成為行業熱點,圍繞它的一係列技術瓶頸也急需實現突破,從而帶動LED芯片產業的新一輪高速增長。

  作為一種新型的LED顯示方案,MiniLED在技術方麵日趨成熟。基於更小的芯粒尺寸(~100μm)製作需求,MiniLED芯片在工藝方麵需要更好的一致性、更高的顆粒控製能力和更優的膜層質量。與傳統LED芯片在製程方麵存在的差異,是機遇也是挑戰,而更先進的技術最終要落腳於更先進的設備。

  北方華創近年來始終著力於開發更優性能、更大產能、更智能化的MiniLED設備。基於MiniLED芯片製作對設備性能的需求,NAURA積極布局相關設備研發,涵蓋藍綠光與紅黃光芯片工藝,主要產品包括ICP刻蝕機、PECVD、PVD(AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter)、ALD等一係列設備。

ELEDE® G380A

  NAURA LED ICP刻蝕設備(ELEDE® G380A)在傳統ICP刻蝕設備的基礎上,對上、下電極係統及設備加熱控溫係統進行了優化設計,實現了刻蝕均勻性的有效提升,完全滿足MiniLED芯片的均勻性及邊緣利用率要求。此設備適用於MiniLED多種材料刻蝕,覆蓋藍綠、紅黃芯片全流程,包括深槽隔離刻蝕(Isolation)、電極刻蝕(Mesa)、介質反射層刻蝕(DBR)及紅黃光刻蝕(AlGaInP),具有精準的線寬控製和高速刻蝕能力,可實現穩定量產並具備優異的刻蝕均勻性。設備配置了Cassette in Cassette out自動生產模式,可達到更好的顆粒控製能力。


EPEE i800

  NAURA LED PECVD設備(EPEE i800)采用托盤載片和多站動態作業模式,為MiniLED芯片製造提供了優良的PECVD工藝解決方案。NAURA通過對鍍膜方式進行改進,實現了更優的片內和片間鍍膜均勻性;通過對反應腔上、下電極係統的優化設計,實現了更大的單機產能輸出。EPEE i800設備的鍍膜均勻性、顆粒控製能力以及自動化程度明顯提升,可實現工廠端自動化生產,完全滿足MiniLED對芯片製造的要求。

  ELEDE® G380A與EPEE i800等設備不僅能滿足新一代MiniLED製程,還可應用於未來MicroLED製程的研發,其跨世代的工藝能力是客戶技術發展及創新的一大助力。

  NAURA還可提供對接廠務MES係統或者其他廠務自動化軟件的解決方案;全流程自動化解決方案可幫助客戶實現生產過程的無人化、信息化和智能化管理。

  隨著LED顯示技術和產品的不斷創新,新技術的每一次超越與落地,對於行業發展來說都具有重大意義,NAURA願與業界同仁一起在半導體顯示技術領域銳意進取、開拓創新,共譜新篇章。


相關文章